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Thetametrisis自动化高速薄膜测量仪 FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具，适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快速和准确测量薄膜特性：厚度，折射率，均匀性，颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。
 

1、应用

　　半导体生产制造：(光刻胶, 电介质,光子多层结构， poly-Si, Si, DLC, )

　　光伏产业

　　液晶显示

　　光学薄膜

　　聚合物

　　微机电系统和微光机电系统

　　基底：透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明
 

　　Thetametrisis显示器薄膜测量仪的光学模块可容纳所有光学部件：分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此，在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。

　　Thetametrisis显示器薄膜测量仪 FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法，可以在很短的时间内记录具有高重复性的精确反射率数据，这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。
 

2、特征

　　单点分析(不需要预估值)

　　动态测量

　　包括光学参数(n和k，颜色) o 为演示保存视频

　　600 多种的预存材料

　　离线分析

　　免费软件更新

3、性能参数

4、测量原理

　　白光反射光谱(WLRS)是测量从单层薄膜或多层堆叠结构的一个波长范围内光的反射量，入射光垂直于样品表面，由于界面干涉产生的反射光谱被用来计算确定(透明或部分透明或*反射基板上)的薄膜的厚度、光学常数(n和k)等。

　　1、样片平台可容纳任意形状的样品。450mm平台也可根据要求提供。真正的X-Y扫描也可能通过定制配置；

　　2、硅基板上的单层SiO2薄膜的厚度值。对于其他薄膜/基质，这些值可能略有不同；

　　3、15天平均值的标准差平均值。样品：硅晶片上1微米的二氧化硅；

　　4、2 X (超过15天的日平均值的标准偏差)。样品：硅晶片上1微米的二氧化硅；

　　5、测量结果与校准的光谱椭偏仪比较；

　　6、根据材料；

　　7、测量以8 "晶圆为基准。如有特殊要求，扫描速度可超过1000次测量/每分鐘；
 

　　如果您想要了解更多关于Thetametrisis膜厚仪的产品信息，请联系我们岱美仪器。

ThetaMetrisis是一家私人控股科技公司，于2008年12月在希腊雅典成立，是微电子研究所的第一家分拆公司。ThetaMetrisis的核心技术是白光反射光谱（WLRS），它可以在从几埃到毫米的超宽范围内准确并同时测量堆叠薄膜和厚膜的厚度和折射率。

2009年6月推出首个Build2Order FR工具，用于研发实验室中的涂层表征。

2011年9月WLRS监测生物分子相互作用的演示

2013年4月用于PoN应用的USB供电FR-pOrtable工具推向市场

2014年6月在美国加利福尼亚州成立ThetaMetrisis有限责任公司

2015年2月推出最快的工具（FR-Scanner），用于晶圆级涂层的自动电荷化

2015年9月基于WLRS的多分析物生物传感器专利

2018年1月生物分析仪BA工具进入市场，用于生物分子相互作用的无标签监测

2018年4月ThetaMetrisis制造和研发的扩张以及搬迁至新建筑

2019年1月推出FR-uProbe，用于表征微米横向分辨率的涂层

岱美有限公司成立于1989年，是半导体，数据存储，光学，光伏和航空航天行业领先制造商和创新研发机构的先进设备分销商。对于我们的客户，我们不仅提供设备，还提供建议和技术指导，并让客户及时了解我们不断积累的行业最新经验。