RENA Technologies GmbH提供广泛的半导体晶圆湿法加工产品组合。我们制造手动、半自动和全自动设备以及定制设计的具有出色过程控制的化学站。我们还为金属蚀刻和金属剥离等湿法工艺提供专利技术。RENA 的多功能湿处理平台和技术可用于生产线前端 (FEOL) 和生产线后端 (BEOL) 应用,以制造集成电路 (IC)、MEMS 传感器、光子、射频和电源设备。
我们的半导体表面处理工具能够处理所有类型的半导体和化合物,例如硅 (Si)、碳化硅 (SiC)、氮化镓 (GaN)、砷化镓 (GaAs) 和磷化铟 (InP),晶圆尺寸可达300 毫米。RENA 还提供电镀平台,使客户能够电镀多种类型的纯金属,如金 (Au)、银 (Ag)、铜 (Cu) 和镍 (Ni) 以及合金。