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全球装机量超过1250台，centrotherm的PECVD平台C.PLASMA为太阳能电池的钝化和减反射膜设定了技术标杆和行业标准。该系统独特地集高产能、优异工艺性能与低运行成本于一体。

centrotherm可针对不同的硅片尺寸和产能要求提供两种主要配置。

除了用于166mm硅片的5管设备外, centrotherm还推出来引领光伏产业发展的新一代C.PLASMAX。基于其成熟的平台，C.PLASMAX为高产能设定了新标准。

10管设计同样为边长达210mm的硅片提供了最大的灵活性和系统可用性。最值得称道的是，它集成了TMA供应柜和真空泵，从而显著节省了占地面积。在生产负荷和工艺步骤发现变化的情况下，仍能保证平稳运转。

最大的灵活性

C.PLASMA具有高度可配置化设计，通过经济合理的手段，实现广泛的工艺、产能和自动化水平要求。因此，它是高性能太阳能电池技术中最为灵活的高产能生产解决方案。

该系统提出了一种先进的设备利用理念，并装配有新一代等离子体电源。新- - 代设备配有优化的电源管理系统和厚度自动修正功能。

直接等离子沉积工艺

centrotherm的直接等离子体沉积技术可提供高质量的减反射膜、高密度的掩层以及极佳的表面和体钝化效果，带来最大的效率增益。

由于仅对石墨舟和硅片进行沉积，工艺腔不会因沉积过程而受到影响。该设备不需要周期性的腔体清洁，因此量产过程中可达到行业领先的设备稼动率。

PECVD工艺

· 氮化硅(SiNx)

· 氧化铝(AIOx)

· 氮氧化硅(SiONx)

· 氧化硅(SiOx) 

· 多晶硅

更多工艺

· 多层膜

· 渐变膜

氮化硅减反层&钝化层的行业标准

· SiNx层具有优异的氢钝化效果

· 渐变和多层膜可以提高更宽波段的减反射效果

· 效率提升，外观优化

· SiNx层中的高含氢量，对后续抗LD再生工艺有积极的影响，尤其是单晶太阳能电池

高性价比PERC解决方案

高效太阳能电池生产工艺

· 在AIOx厚度为4-10nm的AlOx/SiNx叠层沉积中具有优异的钝化性能

· 只需改变工艺气体, ,可一步完成AlOx/SiNx叠层沉积

· 各管自由切换工艺配方

· 适用于单晶和多晶太阳能电池的生产

· 优异的表面覆盖均匀性

热生产解决方案和涂层技术是centrotherm的核心竞争力。70多年来，我们一直致力于为不断增长的全球客户群开发和实施生产解决方案。除了半导体、微电子及光伏等成长型领域外，我们的创新解决方案也被应用于以未来为导向的领域，如纤维或电池的生产。作为一家领先的、活跃于全球的科技集团，我们与工业和研究领域的合作伙伴建立了紧密合作关系，共同改进了现有的生产理念，开创了行业新趋势。基于此，我们为客户创造了极具价值的竞争优势。全球拥约600多名员工，我们共同致力于绿色、智能、高效的塑造未来。

centrotherm公司长期从事热解决方案的创新开发，迄今已60余年。作为一家居于领先地位的全球性运营技术集团，我们提供光伏、半导体与微电子工业的生产解决方案。 我们持之以恒地从事热处理与涂层解决方案的开发，在诸如晶硅太阳能电池与功率半导体器件制造方面持续不断地取得成功，并在此基础上与业界和研发机构建立了成功的合作关系。 我们的客户遍布世界各地，他们高度评价我们的生产系统在批量生产过程中的工艺稳定性、可量测性与可利用性。此外，我们创造的高端工艺技术解决方案专为我们的客户量身定制，满足他们的要求，而且系统的构建不同凡响，因而享有盛誉。 我们共同面对日复一日的挑战，顺应新潮流、实现太阳能电池与半导体等产品的生产效率最大化、延长我们机器的使用寿命，并确保投资安全。通过目标明确的工艺流程与生产解决方案创新，为我们的客户建立宝贵的竞争优势。