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在半导体工业中，质量和可靠性至关重要。为了满足这些高要求，我们引以为傲地推出HELLER PCO-1300全自动真空压力烤箱。这款半导体PCO全自动真空压力烤箱融合了创新技术和高度定制的设计，旨在满足各种半导体生产需求。
卓越性能与可靠性
HELLER PCO-1300压力固化炉是半导体行业的首选，因为它提供了卓越的性能和可靠性。其腔室尺寸（2，200[W] x 2，200[D] x 2，475[H] mm）可容纳大型工件，并保持极高的稳定性。最大工作压力达到20 bar（290 psi），最高工作温度可达260°C，确保了半导体制程的严格控制和可重复性。
精确的氮气控制
为了满足不同生产需求，HELLER PCO-1300可以启用氮气。这种可选功能可以在制程中提供高度精确的气氛控制，确保产品的质量和稳定性达到最高水平。无论您是在消费类电子组装、半导体先进封装还是其他领域工作，我们都可以为您提供满足要求的气氛。
高效的洁净室
在半导体制程中，洁净度是至关重要的。HELLER PCO-1300可选的洁净室等级100确保产品在无尘环境中进行固化。这有助于降低生产中的污染风险，提高产品的可靠性和品质。
可选真空模块
HELLER PCO-1300还提供可选的真空模块，使您能够更好地控制制程。这个功能可以降低空洞的存在，从而提高产品的完整性。真空度低至5 Torr，确保了最佳的固化效果。
广泛应用领域
HELLER PCO-1300广泛应用于消费类电子组装、半导体先进封装、表面贴装技术、功率电子、航空航天、国防、汽车电子、医疗设备等对质量和可靠性要求较高的行业。不管您的应用是什么，我们都可以提供一流的解决方案。
在HELLER，我们引领半导体制程设备的创新。HELLER PCO-1300是我们卓越工程能力的杰出体现，它能够满足您的个性化压力固化需求。无论您需要分批式还是在线式固化炉，我们都有多种尺寸的半导体PCO全自动真空压力烤箱可供选择。
详细参数：
全自动压力固化炉，300mm EFEM
固化炉尺寸（mm）： 2，200[W] x 2，200[D] x 2，475[H]
腔室可用面积（mm）： 560[W] x 680[D] x 480[高H]
最大工作压力：20 bar （290 psi）
最高工作温度：260⁰ C
启用氮气（可选）
洁净室等级 100（可选）
真空度低至 5 Torr（可选）
全自动装载EFEM（300mm晶圆）
选择HELLER PCO-1300，选择半导体行业的卓越性能和可靠性。我们为您的制程成功提供支持，确保您的产品达到最高标准。联系苏州仁恩机电科技有限公司，了解更多关于HELLER PCO-1300全自动真空压力烤箱的信息，以及如何满足您的半导体制程需求。
