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Eulitha AG的PHABLE技术是一种针对高效率制作纳米周期图案的独特光刻技术。该技术采用了非接触的接近式UV或DUV曝光方案，可以在大面积上实现纳米分辨力的图案。特别适合于光电相关领域的工业生产，兼具高精度和良好稳定性。

Eulitha提供了独特的低成本制作高分辨率周期图案的光学曝光解决方案：

PhableR 手动光刻机，针对科研和低产量需求的生产。

PhableX 自动光刻机，针对工业级生产。

PhableS 步进式光刻机，针对具有更大面积需求的工业生产。

应用领域：

照明、激光器、光通信、高端显示、太阳能、传感器、仿生等。

特点及优势：

• 稳定的纳米级分辨能力；
• 大面积全域曝光，无需拼接；
• 无限制DOF，厚胶、表面翘曲无影响；
• 双工作模式：
  全息光刻模式：周期性纳米结构；
  掩膜对准光刻模式：任意微米级结构。
• 简化的曝光流程，可实现一键式曝光
• 灵活的客户定制化方案

Eulitha是全球领先的高品质光刻解决方案供应商。Eulitha成立于2006年，不断创新和开发新的光刻技术和技术，以满足光电子市场不断发展的需求。

Eulitha是纳米制造解决方案的先驱，提供一套创新技术，特别是PHABLE (PHOTONICS ENABLER)和位移塔尔博特光刻(DTL)。这些解决方案推动公司走在纳米制造的前沿，改变了要求精度和可重复性的行业。

Founded in 2006.

In the canton Aargau of Switzerland. Its founders have led the development of Extreme Ultraviolet Interference Technology at the Paul Scherrer Institute. Having entered the market with products based on its EUV technology, Eulitha has expanded its range of products with the addition of state-of-the-art electron beam lithography technology to its capabilities.

In 2010.

Eulitha announced the breakthrough PHABLE™ technology, which greatly simplifies production of periodic nanostructures over wafer scale areas. The company has a global customer base of researchers from industrial and academic laboratories. Backed by private Swiss equity Eulitha serves its growing number of customers from two locations in Kirchdorf and the Paul Scherrer Institute.

自1999年成立以来，北京汇德信科技有限公司始终秉承“诚信、专业、创新”的宗旨，将国际上先进的纳米科学技术设备引进到国内。我们与德国亚琛工业大学、德国明斯特大学、德国斯图加特大学、德国卡尔斯鲁尔纳米中心及德国Max-Planck研究所等知名科研院所有着紧密的合作，并系统地代理了Eulitha（紫外光刻系统）、Exaddon AG（微纳金属3D打印系统）、Allresist(光刻胶)、Novocontrol（宽频介电阻抗谱仪）、 Keller(红外测温仪)等多家国际知名高新技术企业产品。产品覆盖了微纳米制造、检测、分析等相关领域。产品已经被国内众多科研院所、大学及工业用户使用，并得到用户一致好评和认可。

作为几十家国际知名品牌的国内独家代理，汇德信已建立起以客户为中心，为客户解决科研需求的销售团队和专业的技术支持队伍。公司不定期地组织技术人员出国培训，提升技术水平，更好地为客户提供技术解决方案。