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湿法设备自动槽式清洗机
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主营产品:
半导体黄光光刻设备,涂胶显影机设备,高端客制化湿法设备,备品备件 技术服务 移机服务等
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商品详情

适用制程:Etch, PR Strip, Wafer Clean, Plating

适用尺寸:2/4/6/8/12inch

    适用材质:Si, GaAS, Glass, SiC, InP, Sapphire

    应用领域:半导体先进封装、

                        2.5D/3D IC封装、

                         化合物半导体、

                           硅晶圆制造、

                          SiC晶圆制造、

                       MOSFET晶圆后段制程(BGBM)、

                      车用二极管、石英元件、CIS光学元件

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