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涂胶显影机
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中国
主营产品:
半导体黄光光刻设备,涂胶显影机设备,高端客制化湿法设备,备品备件 技术服务 移机服务等
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商品详情

晶圆尺寸(mm):100/150/200

工艺:i-line, KrF, PI

应用领域:Si, SiC, GaAs, GaN, Glass, Sapphire

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