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湿法设备单片式清洗机
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中国
主营产品:
半导体黄光光刻设备,涂胶显影机设备,高端客制化湿法设备,备品备件 技术服务 移机服务等
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商品详情

适用制程:Etch, PR Strip, Wafer Clean, Flux Clean, Mask Clean

适用尺寸:4& 6 inch, 6& 8 inch, 8& 12 inch

    适用材质:Si, GaAS, Glass, SiC, InP, Sapphire

     应用领域:半导体先进封装、

                       2.5D/3D IC封装、

                       化合物半导体、

                         硅晶圆制造、

                       SiC晶圆制造、

                     MOSFET晶圆后段制程(BGBM)、

                    车用二极管、石英元件、CIS光学元件

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