苏美达达天下

适用于：8~12英寸晶圆刻蚀 

设备特点：

1. 刻蚀性能优异，与Single Wafer机台完全持平，而能耗更低

2. 节能，药水单耗低于Single Wafer

3. 结构简单，使用方便，操作难度低于Single Wafer

4. 成本低廉，相同产能其价格约为Single Wafer机台的1/5

5. 设备升级空间巨大，容易搭载更多的功能

苏州晶洲装备科技有限公司2011年成立于苏州常熟高新技术产业开发区辛庄工业园，业务范围集研发、设计、制造、销售及售后为一体，专注于平板显示、光伏、半导体领域的高精密清洗、显影、湿法刻蚀、光阻剥离等高端湿制程设备的生产及研发，并同步延伸相配套的环保及智能数据，如废液在线回收系统、机器人运用等关键自动化系统，是一家具备高新技术企业资质的高端湿制程装备及工艺技术综合解决方案提供商。

苏州晶洲装备科技有限公司2011年成立于苏州常熟高新技术产业开发区辛庄工业园，业务范围集研发、设计、制造、销售及售后为一体，专注于平板显示、光伏、半导体领域的高精密清洗、显影、湿法刻蚀、光阻剥离等高端湿制程设备的生产及研发，并同步延伸相配套的环保及智能数据，如废液在线回收系统、机器人运用等关键自动化系统，是一家具备高新技术企业资质的高端湿制程装备及工艺技术综合解决方案提供商。