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中国
主营产品:
22-90纳米工艺涂胶显影机、单片湿法清洗机、去胶剥离机、单片刻蚀机 、喷胶机等
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商品详情

适用于4、6、8、12英寸硅片、化合物、玻璃、蓝宝石等基片WET处理
全系列标配伯努力chuck
毛刷Brush清洗(PVA或超细毛刷)、兆声波、高压水,药液、EUV清洗功能

去胶设备( lift off):高压药液去胶,浸泡去胶,超声(兆声波)波清洗
自动回收金属功能
刻蚀设备采用:多液体分离回收结构、刻蚀液精确温控单元
模块化的单元便于维护
图形化的人机交互界面

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