Sumec menuSumec menu

苏美达达天下

全球设备交易服务平台

search 搜索
Image
English
Image
+86 25-84532303
Image
sunyuchen@sumec.com.cn
1 / 1
晶圆单片无损物理清洗机
iconicon
发布需求发布需求
芯达半导体
芯达半导体 icon
查看更多
发布需求发布需求
芯达半导体
芯达半导体 icon
中国
主营产品:
22-90纳米工艺涂胶显影机、单片湿法清洗机、去胶剥离机、单片刻蚀机 、喷胶机等
icon

商品详情

适用于8英寸和12英寸晶圆物理单片清洗,无需翻转晶圆即可完成正面、背面和边缘的清洗,减少以往单片清洗设备因搬运翻转带来的晶圆污染。采用Nano Spray无损二流体冲洗技术晶圆正面清洗损伤率降至极低程度。CleanPro2000的高产能可达到WPH>300片每小时,适用于单晶清洗工艺,是晶圆制备和加工过程中的理想选择。

店铺所有产品
涂胶显影机店铺所有产品
清洗机/去胶机/刻蚀机店铺所有产品
喷胶机店铺所有产品
晶圆单片无损物理清洗机店铺所有产品
C型涂胶显影机店铺所有产品
F型涂胶显影机店铺所有产品