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中国
主营产品:
22-90纳米工艺涂胶显影机、单片湿法清洗机、去胶剥离机、单片刻蚀机 、喷胶机等
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商品详情

适用领域封装、MEMS、IGBT、LED

适用于6、8或12英寸晶圆及方片,特殊形状可定制

适应于光刻胶粘度<50cps,正性或负性光刻胶

流量≤0.25ml/秒for50cps,粘度≤10cps时喷嘴理论流量达到最大值

主要固态颗粒物浓度上限位≤40%

主要固态科颗粒直径≤0.1倍平均雾化颗粒直径·自动机械臂喷涂、自动旋转烤盘、自动后烘烤搬运

不间断无脉动连续供胶pump
手动上下多片卡具或Robot自动标准晶圆上下片
模块化的单元便于维护
图形化的人机交互界面

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