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Lift-off电子束蒸发镀膜机
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中国台湾
主营产品:
磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发、ALD、PEALD、RIE、PECVD 和 LPCVD
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商品详情

对传统热蒸发技术难以实现的材料蒸发,可采用电子束蒸发(E-beam Evaporation)的方式来实现。不同于传统的辐射加热和电阻丝加热,高能电子束轰击可实现超过3000℃的局域高温,这使得绝大部分常用材料都可以被蒸发出来,甚至是高熔点的材料,例如,Pt,W,Mo,Ta以及一些氧化物,陶瓷材料等。矽碁提供的电子束蒸发源可承载1-6种不同的材料,实现多层膜工艺;蒸发源本身防污染设计,使得不同材料之间的交叉污染降到最低。特别是针对Lift-off工艺的样品高温问题,设备配置了低温的样品台,可避免光刻胶碳化问题;样品台可倾斜以便选择不同角度进行蒸镀,可实现良好的覆盖性。

 

技术参数:

1. 本底真空10-7 Torr;

2. 基片台可定制,单片或多片;

3. 坩埚数量:1 ~ 6;

4. 坩埚防污染设计;

5. 石英晶振测量膜厚;

6. 样品可旋转并加热至:300℃/500℃/800℃;

7. 可配备离子束辅助沉积;

8. 可配备快速进样室;

9. 可与手套箱集成;

10. 可根据用户要求将其它镀膜技术与电子束蒸发集成,例如磁控溅射,热蒸发等;

11. 全自动控制系统;

12. 可选配带冷却功能的样品台,适合用于lift-off工艺;

13. 可选配倾角可调的样品台,增加薄膜的台阶覆盖能力。

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