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手动镀膜系统
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中国台湾
主营产品:
磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发、ALD、PEALD、RIE、PECVD 和 LPCVD
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商品详情

手动磁控溅射系统适用于本科生教学,研究生科研训练,也可以应用于科研工作。该款设备适用于磁控溅射,也可以装配电子束蒸发,热蒸发源等,用户可根据需求来选择配备。

 

技术参数:

1. 本底真空:10-7 Torr;

2. 单基片设计,尺寸可定制;

3. 基片可旋转并加热:300℃/500℃/800℃;

4. 溅射:1-3支磁控溅射靶枪,可共溅射;

5. 电子束蒸发:4-6坩埚;

6. 热蒸发:最多6蒸发源,包括有机物蒸发源;

7. 可连接手套箱。

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