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磁控溅射是物理气相沉积技术(Physical Vapor Deposition, PVD)的一种。一般用于制备金属、半导体、绝缘体等薄膜材料，具有设备简单、易于控制、效率高，面积大等优点。

磁控溅射原理：通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

技术参数：

1. 本底真空：10-7Torr到10-9Torr；

2. 单基片设计，尺寸可定制，常规尺寸2-6英寸；

3. 基片可旋转并加热：300℃/500℃/800℃；

4. 最多可拓展8支磁控溅射靶枪，可共溅射；

5. 靶枪角度可调，溅镀距离可调，可升级强磁靶；

6. 可选配多路气路；

7. 防交叉污染隔板设计；

8. 可配备离子束辅助沉积；

9. 可配备样品预清洗功能；

10. 可配备快速进样室；

11. 可配备自动压力控制系统；

12. 全自动操作系统；

Syskey Technology Co.， Ltd. 是一家领先的高质量薄膜设备研发和工业生产供应商。Syskey 产品组合包括手动、半自动或全自动解决方案中的磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发、ALD、PEALD、RIE、PECVD 和 LPCVD。我们的强项之一是根据客户的要求定制和实现薄膜系统。我们相信为客户提供优质的产品和诚实的服务，并在全球客户中建立了令人羡慕的声誉和可靠性。继这一成功之后，Syskey 继续开发最好的设备，以满足客户现在和未来的需求。

随着技术的迅速发展，员工将专注于工业技术研究。我们将为客户提供完美的技术服务，提高客户满意度。此外，我们将业务扩展到国际领域，并在中国、东南亚和中东国家取得了成就。我们期待在不久的将来将自己的品牌推向世界。

我们努力建立竞争优势和卓越的产品，以实现可持续的业务。
1. 提高客户满意度
与客户合作，成为最好的项目支持者。
2. 特色产品开发
与太阳能、面板或半导体等各个行业合作，开发领先技术。
3. 专业的团队合作
我们专注于以客户为导向。在产品开发和生产技术上，通过人才培养提升商业价值。

深圳海创德科技有限公司致力于半导体微加工及分析设备的销售和安装服务，产品覆盖薄膜制备，物性测量和表面分析。

经营的主要产品如下（深圳海创德科技有限公司产品列表）：

1. 台湾矽碁 SYSKEY的磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发、PECVD、LPCVD、ALD、RIE、ICP、RTP、涂胶机和热板等薄膜技术相关的设备；

2. 美国Kimball Physics的电子枪、离子枪、真空腔体和荧光屏等部件；美国OCI的LEED和AES等各种真空组件；美国MicroXact的真空、低温和磁场等数种探针台；

3. 我们还提供上述设备的配套部件及耗材，如直流和射频电源、靶材、探针、光刻胶和ALD耗材等。

我们的产品性价比高，品质精良，性能优越，在欧美及台湾地区具有极好的口碑，国内众多的科研院所和大学均对我们的产品报以好评。

我们的合作伙伴：

台湾矽碁 SYSKEY、美国Kimball Physics、加拿大OCI Vacuum Microengineering Inc. 、美国McAllister Technical Services等。
我们期待以优质的产品，良好的服务和专业的技术为更多的客户提供解决方案！期待与您的合作！