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用于薄膜沉积的 LD 原子层沉积是基于气相化学过程顺序使用的最重要的技术之一;它可以被认为是一种特殊类型的化学气相沉积 （CVD）。大多数 ALD 反应使用两种或多种称为前体（也称为“反应物”）的化学物质。这些前驱体以连续的、自限性的方式一次与一个材料的表面发生反应。通过 ALD 循环次数，薄膜缓慢沉积。ALD 是制造半导体器件的重要工艺，也是可用于合成纳米材料的工具集的一部分。

ALD 具有许多优点，例如出色的均匀性、薄膜保形性，即使在复杂形状的衬底上也能沉积相同的薄膜厚度，低温加工。因此，原子层沉积 （ALD） 应用于微电子、纳米技术和生物技术领域的许多应用，这些应用通常在有机和生物样品等软衬底上工作。

技术参数：

1. 灵活的基板尺寸，直径可达 12 英寸晶圆。
2. 优异的薄膜均匀性，小于 ±1%。
3. 与高纵横比和复杂结构的加工高度一致。
4. 前驱体源 多达 6 个前驱体单独加热至 200°C。
5. 快速脉冲气体输送阀，响应时间为 10 毫秒。
6. 基板加热至 400°C。

Syskey Technology Co.， Ltd. 是一家领先的高质量薄膜设备研发和工业生产供应商。Syskey 产品组合包括手动、半自动或全自动解决方案中的磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发、ALD、PEALD、RIE、PECVD 和 LPCVD。我们的强项之一是根据客户的要求定制和实现薄膜系统。我们相信为客户提供优质的产品和诚实的服务，并在全球客户中建立了令人羡慕的声誉和可靠性。继这一成功之后，Syskey 继续开发最好的设备，以满足客户现在和未来的需求。

随着技术的迅速发展，员工将专注于工业技术研究。我们将为客户提供完美的技术服务，提高客户满意度。此外，我们将业务扩展到国际领域，并在中国、东南亚和中东国家取得了成就。我们期待在不久的将来将自己的品牌推向世界。

我们努力建立竞争优势和卓越的产品，以实现可持续的业务。
1. 提高客户满意度
与客户合作，成为最好的项目支持者。
2. 特色产品开发
与太阳能、面板或半导体等各个行业合作，开发领先技术。
3. 专业的团队合作
我们专注于以客户为导向。在产品开发和生产技术上，通过人才培养提升商业价值。

深圳海创德科技有限公司致力于半导体微加工及分析设备的销售和安装服务，产品覆盖薄膜制备，物性测量和表面分析。

经营的主要产品如下（深圳海创德科技有限公司产品列表）：

1. 台湾矽碁 SYSKEY的磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发、PECVD、LPCVD、ALD、RIE、ICP、RTP、涂胶机和热板等薄膜技术相关的设备；

2. 美国Kimball Physics的电子枪、离子枪、真空腔体和荧光屏等部件；美国OCI的LEED和AES等各种真空组件；美国MicroXact的真空、低温和磁场等数种探针台；

3. 我们还提供上述设备的配套部件及耗材，如直流和射频电源、靶材、探针、光刻胶和ALD耗材等。

我们的产品性价比高，品质精良，性能优越，在欧美及台湾地区具有极好的口碑，国内众多的科研院所和大学均对我们的产品报以好评。

我们的合作伙伴：

台湾矽碁 SYSKEY、美国Kimball Physics、加拿大OCI Vacuum Microengineering Inc. 、美国McAllister Technical Services等。
我们期待以优质的产品，良好的服务和专业的技术为更多的客户提供解决方案！期待与您的合作！