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量产型原子层沉积
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中国台湾
主营产品:
磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发、ALD、PEALD、RIE、PECVD 和 LPCVD
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商品详情

特殊的腔体设计和工艺设计,可以使得ALD技术应用于工业量产,并且可以最大程度提高镀膜效率。矽碁可根据用户的需求定制设备。

 

技术参数:

1. 不锈钢腔体,双层加热设计;

2. 等离子体增强模块集成于腔体上盖;

3. 进口高速ALD隔膜阀;

4. 基片尺寸可以定制;

5. 基片最高加热400℃;

6. 最多可提供6路前驱物和6路工艺气体;

7. 气路全金属密封,并可加热至120℃;

8. 可提供前驱体钢瓶加热或冷却;

9. 可全自动控制工艺过程,同时也可以手动操作。

10. 量产型设计,可以全自动化

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