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低压化学气相沉积
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中国台湾
主营产品:
磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发、ALD、PEALD、RIE、PECVD 和 LPCVD
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商品详情

低压化学气相沉积(Low Pressure Chemical Vapor Deposition, LPVD)是指在较低气压下环境进行薄膜沉积,可进行大面积小批量样品沉积。

 

技术参数:

1 基片尺寸可定制,最大可达10 英寸;

2 最高加热温度 1700 ℃,单温区或者多温区可选;

3 最多可配置6路工艺气体;

4 配备油泵或者干泵,可选配分子泵;

5 样品水平,垂直两种配置模式;

6 可小批量量产;

 

应用领域:

LPCVD

退火

扩散

氧化

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