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热丝辅助化学气相沉积
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中国台湾
主营产品:
磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发、ALD、PEALD、RIE、PECVD 和 LPCVD
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商品详情

热丝辅助化学气相沉积(Hot Wire Assisted Chemical Vapor Deposition, HWCVD)是指在加热丝辅助的条件下进行薄膜化学气相沉积,适合做高温的结晶材料,加热丝辅助的同时还可以利用等离子体增强线圈进一步辅助,从而提高制备出来的薄膜的晶体取向性。

技术参数:

1. 基片尺寸可定制;

2. 最高加热温度 2000℃;

3. 样品台加热温度500℃;

4. ICP等离子体增强可选;

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