Sumec menuSumec menu

苏美达达天下

全球设备交易服务平台

search 搜索
Image
English
Image
+86 25-84532303
Image
sunyuchen@sumec.com.cn
1 / 1
电子束蒸发源
iconicon
发布需求发布需求
埃伯仪器
埃伯仪器 icon
查看更多
发布需求发布需求
埃伯仪器
埃伯仪器 icon
中国
主营产品:
分子束外延系统(MBE)、 脉冲激光沉积系统(PLD)、 反射式高能电子衍射仪(RHEED)、蒸发源、 电子枪、离子枪等
icon

商品详情

电子束蒸发源是为高蒸发速率的低蒸气压材料设计的,尤其是高纯材料以及难熔材料,如Mo,Nb,Ta,W,Zr,Al,及半导体材料Si和Ge,典型应用于Si-Ge的MBE系统.

 

270°偏转e型电子枪

单坩埚容量:4 cc, 100 cc, 160 cc, 1000 cc;

多坩埚:3 x 15 cc,6 x 15 cc,6 x 8 cc

法兰尺寸:DN63CF, DN250CF

专为MBE设计,UHV兼容,烘烤温度可达230℃

德国Ferrotec公司提供高品质多坩埚电子束蒸蒸发源,适用于各种定制高真空镀膜系统。
 


 

单口水平安装电子束蒸发源-EBV是为高蒸发速率的低蒸气压材料设计的,尤其是高纯材料以及难熔材料,如Mo,Nb,Ta,W,Zr,Al,及半导体材料Si和Ge,典型应用于SiGe的MBE系统。

产品特点:

法兰尺寸:CF150/CF200/CF250

坩埚容量:40/100 cc

灯丝类型:W螺旋线圈,电子发射灯丝

工作气压:1×10-11mbar~1×10-5mbar

加速电压:4-10kV

电子束功率:最高10kW(3kW,5kW)

灯丝电流:最高50A

束斑尺寸:直径约5mm

电子束发射方式:磁场偏转270°

束斑偏转范围:x方向±3A,y方向±3A

外部烘烤温度:200℃

冷却方式:循环水冷却,水流量8l/min,压力3bar

坩埚:40cm3或100cm3加热区域

选配:水冷屏,挡板

 

 

单口电子束竖直蒸发源EBVV是为竖直向预留法兰口的超高真空设备而设计,可以满足竖直安装。非常适合低蒸气压材料,难熔金属或掺杂,如P,C等;以及新兴的高介电材料Al2O3,Pr3O3或者其他氧化物,电介质,也可以满足Si薄膜生长。

产品特点:

法兰尺寸:CF63/CF100

坩埚容量:4/5 cc

真空腔体内长度:234~400mm

加热口尺寸:Ø22mm (15° 锥角) x H 15mm ,Ø23mm (12°锥角) x H 15mm

外部烘烤温度:200℃

束斑尺寸:直径约5mm

束流偏转:270°磁场偏转

水冷:5l/min,压力约4bar

选配:挡板

 

多坩埚水平安装电子束蒸发源-EBVM是为高蒸发速率的低蒸气压材料设计的,尤其是高纯材料以及难熔材料,如Mo,Nb,Ta,W,Zr,Al,及半导体材料Si和Ge,典型应用于SiGe的MBE系统。

产品特点:

法兰尺寸:CF200/CF250

腔体内直径:195mm/245mm

腔体内长度:对于4个8cc坩埚和3个15cc坩埚:250mm; 对于6个8cc坩埚:330mm; 对于6个15cc坩埚:350mm

坩埚容量:8cc, 15cc

加热区域:直径30mm(15°倾角)×15mm深度,直径37mm(15°倾角)×17mm深度

灯丝类型:W螺旋线圈,电子发射灯丝

外部烘烤温度:200℃

工作气压:1×10-11mbar~1×10-5mbar

加速电压:4-10kV

电子束功率:最高6kW(3kW,根据电源功率)

灯丝电流:最高50A

束斑尺寸:直径约5mm

电子束发射方式:磁场偏转270°

束斑偏转:x方向±3A,y方向±3A

冷却方式:循环水冷却,水流量6l/min,压力3bar

选配:水冷屏,挡板

 

点击可查看更多“产品分类‍”‍

直达具体产品分子束外延系统MBE)、 脉冲激光沉积系统(PLD)、 反射式高能电子衍射仪(RHEED)、蒸发源离子源‍、电子枪


 

店铺所有产品
分子束‍外延系统MBE店铺所有产品
精密电子束焊接设备店铺所有产品
精密真空激光焊接设备系列店铺所有产品
超高真空纳米颗粒源店铺所有产品
超高真空射频原子源店铺所有产品
分子束外延系统OCTOPLUS 500 EBV店铺所有产品