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桌面式模块化真空镀膜系统
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中国
主营产品:
分子束外延系统(MBE)、 脉冲激光沉积系统(PLD)、 反射式高能电子衍射仪(RHEED)、蒸发源、 电子枪、离子枪等
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商品详情

HEX桌面式薄膜溅射沉积系统

Korvus Technology Ltd. 致力于开发制造模块化小型薄膜制备镀膜,特别适用于科研训练和实验室基本镀膜应用,例如,金属电极制备,新型薄膜开发等;

主要特点:

- 模块化设计,可根据用户应用需求更换,真空腔体也可以模块化组合

- 兼容磁控溅射,电子束蒸发,热蒸发多种沉积技术

- 适用于科研训练和新型薄膜沉积

- 可与手套箱集成

- 占地面积小

主要配置和性能指标:

1.   快速拆换的六块独立板面形成的腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)

2.   系统节约实验室空间,占地约1m2,腔体尺寸:65 cm * 60 cm * 70 cm,重约50 kg

3.   快速 (20分钟内达到 5*10-6Torr)

4.   4英寸及以下尺寸样品台 (可选配 2-20 rpm旋转、500℃加热,水冷、直流偏压)

5.   四种溅射源:磁控溅射;电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源

6.   可集成膜厚测量功能,手套箱系统,以及各种定制功能

7.   自动操作软件控制(选配)

8.   可配备快速进样腔(选配)

9.   原位监测选件:热成像,原位等离子体谱,石英晶振

 

两种型号可选:

 

HEX

HEX-L

最大样品尺寸4英寸6英寸
分子泵

80 l/s

300 l/s
分子泵选配300 l/s700 l/s
侧面板数量66
最多沉积源数量

3(算上QCM)

6
兼容沉积源磁控溅射,电子束蒸发,热蒸发磁控溅射,电子束蒸发,热蒸发

 


应用领域:

化学催化

电极薄膜制备

金属半导体薄膜制备

磁性薄膜制备

微纳米器件

光学器件

如有设备需求,欢迎随时联系我们。


 

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