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用途

专门为精密光学薄膜、半导体镀膜生产而设计，各系统单元和总体结构很好地满足了光学薄膜和半导体行业生产工艺的要求，可在硅片、玻璃，塑胶等各种基材上镀制各种介质薄膜，适用于SiO₂、TiO₂、Al₂O₃、SnO₂、 TiN、AIN等薄膜的生产和工艺开发。

主要结构：真空室、真空系统、传输系统、充气系统、射频离子源、PLC控制系统、PID控温系统、冷却系统等组成。

原子层沉积：ALD 技术（原子层沉积）属于气相沉积技术的一种，其特点为：将气相前驱体脉冲交替（A-B）通入反应室,在基板上发生化学反应形成薄膜，具有自限性和自饱和性，由于其特殊的成膜机制使其生成的薄膜具有以下特征:

1、精度极高：通过一层层原子不断饱和性生长，使ALD真正的实现纳米二级控制薄膜厚度；

2、成膜质量好：前驱体于基材之间的反应通过化学吸附保证薄膜具有极强的附着力；

3、良好的台阶覆盖能力和填充高深宽比间隙的能力：ALD生成的薄膜可在三维结构的复杂材料实现保形均匀的生长，理论上可实现在深宽比1：2000结构器件上实现均匀饱和镀膜。

德派精密位于中国制造名城一一东莞，是一家立足于光学镀膜行业的高端真空镀膜装备及全自动智能化镀膜的企业，集技术研究开发、生产制造和销售服务为一体。 我们始终以客户为中心，将客户需求置于首位，把客户满意作为自己行为准则，严格践行“精密精确创精品、品质品格树品牌"的核心价值观，坚持“研究先进工艺、秉持实用主义”的设计理念，在真空镀膜核心技术上持续加大研发投入。经过多年的沉淀，已拥有多项相关专利技术和多类产品成功应用案例，形成了电子束蒸发、磁控溅射、原子层沉积系列高端镀膜装备，打通了从镀膜前清洁、覆膜、产品装入伞具、伞具装入镀膜机、镀膜、产品从伞具卸入Tray盘、到镀膜后检查等全流程全自动智能化镀膜车间综合解决方案系列配套设备，成长为国内具有一定知名度的专业公司。

德派精密自 2005 年成立以来，在显示设备及真空镀膜领域稳步发展。2008 年，公司战略性进入显示设备领域，随后技术研发成果频出，2009 年成功研发背光组膜设备，次年触摸屏贴合设备也研发成功。2012 年，公司贴覆类设备凭借卓越品质，被星链和果链采用，并于 2014 年获华为认可，进一步打开市场。2017 年，德派精密正式进军真空镀膜领域，持续投入研发，于 2020 年成功推出溅射和蒸发 PVD 设备。到 2021 年，其 PVD 镀膜设备已被头部企业采用，2024 年该设备更是收获广泛好评与认可，彰显了公司强大的技术实力与品牌价值。

德派精密位于中国制造名城--东莞，是一家立足于光学镀膜行业的高端真空镀膜装备及全自动智能化镀膜的企业，集技术研究开发、生产制造和销售服务为一体。我们始终以客户为中心，将客户需求置于首位，把客户满意作为自己行为准则，严格践行“精密精确创精品、品质品格树品牌”的核心价值观，坚持“研究先进工艺、秉持实用主义”的设计理念，在真空镀膜核心技术上持续加大研发投入。经过多年的沉淀，已拥有多项相关专利技术和多类产品成功应用案例，形成了电子束蒸发、磁控溅射、原子层沉积系列高端镀膜装备，打通了从镀膜前清洁、覆膜、产品装入伞具、伞具装入镀膜机、镀膜、产品从伞具卸入Tray盘、到镀膜后检查等全流程全自动智能化镀膜车间综合解决方案系列配套设备，成长为国内具有一定知名度的专业公司。