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LarcomSE 全自动晶圆解键合设备
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中国
主营产品:
快速退火炉
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商品详情

全自动晶圆解键合设备

产地:中国

 

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简介(Description):


 

解键合是在减薄抛光完成后,将晶圆与载片分开的技术。解键合是按照翘曲矫正、热解滑移和晶圆清洗等过程进行的。在临时键合后,键合片往往会经过背面减薄抛光或者镀膜等工艺。这些工艺不仅使得晶圆厚度降低至100 μm 左右,还会引入机械应力和热应力,使得晶圆发生严重翘曲。所以,在解键合前,必须对薄片晶圆进行翘曲矫正,否则在后续升温和滑移解键合时,都会因为形变过大、受力不均导致晶圆损伤、碎裂。量伙半导体自主研发的全自动晶圆解键合设备,完全克服了传统工艺中的这些问题,已经通过大厂认证,进入量产产线中。


 


 

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设备规格( Specifications):


1、支持6-8 英寸wafer;2、热滑移方式解键合;3、加热温度RT-350℃;4、温度精度±1.5℃;5、产能:WPH≥10。
 

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