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瑞士Platit公司是近几年涌现出来的一家较著名的刀具涂层公司，其为BCI集团的成员，隶属于WBloschAG公司。WBlosch成立于1947年，主要从事表壳镀金及宝石行业；1977年开办了PVD（物理涂层）部；1979年建立了真空沉积生产厂；1985年开始从事硬质薄膜的生产；1987年注册了PLATIT品牌；1992年组装出第一台涂层设备；2000年在PL50和PL200的基础上，建立了整套的涂层系统，实现了交钥匙工程能力；2002年通过研究纳米结构涂层，开发出了旋转靶π80涂层设备；2003年nACoR纳米结构涂层达到工业应用水平。

截止到2004年，Platit公司共生产了约100台涂层设备。Platit在捷克、斯洛文尼亚、美国、中国香港、西班牙、Scandinacia设有涂层加工中心，其涂层设备共五个系列：iPL50、PL200、MO200、PL1000及π80，应用领域主要涉及刀具、模具及耐磨零部件。

Platit主要采用矩形大面积平面靶阴极电弧涂层技术，该技术起源于上世纪90年代中期，使每一阴极靶材完全覆盖有效涂层区域，最大靶材高度可达800mm，由于成功地解决了电弧的控制技术，与同类技术相比其真空炉内涂层均匀性得以大幅度提高，通常炉内不均匀性可控制在10%以内，绝对偏差小于0.5μm。

该公司2002年所开发的π80涂层设备具有独特的创新性。π80设备与传统的涂层设备有较大的区别，首先引入了纳米结构薄膜概念，以（nc-Ti1-xAlxN）/（αSi3N4）纳米复合相结构薄膜为例，在强等离子体作用下，纳米TiAlN晶体被镶嵌在非晶态的Si3N4体内，这种结构使薄膜硬度可达到50GPa，且高温硬度更是十分突出，当温度达到1200℃时，其硬度值仍可保持在30GPa；其二，在工业化生产设备中虽然仍采用了阴极电弧技术，但蒸发源已由原来的平面形式变换成可转动的圆柱形靶，由此带来的好处可能是多方面的，例如可以自动清洁、靶材利用率高、涂层表面粗糙度可达到Ra0.02～0.03μm（通常涂层为Ra0.1μm左右），π80与其它传统的涂层设备相同可进行TiN、TiAlN、AlTiN、nACo、TiCN-Mp、TiAlCN、CrN、ZrN、DLC等涂层。

瑞士Platit公司是近几年涌现出来的一家较著名的刀具涂层公司，其为BCI集团的成员，隶属于WBloschAG公司。WBlosch成立于1947年，主要从事表壳镀金及宝石行业；1977年开办了PVD（物理涂层）部；1979年建立了真空沉积生产厂；1985年开始从事硬质薄膜的生产；1987年注册了PLATIT品牌；1992年组装出第一台涂层设备；2000年在PL50和PL200的基础上，建立了整套的涂层系统，实现了交钥匙工程能力；2002年通过研究纳米结构涂层，开发出了旋转靶π80涂层设备；2003年nACoR纳米结构涂层达到工业应用水平。

截止到2004年，Platit公司共生产了约100台涂层设备。Platit在捷克、斯洛文尼亚、美国、中国香港、西班牙、Scandinacia设有涂层加工中心，其涂层设备共五个系列：iPL50、PL200、MO200、PL1000及π80，应用领域主要涉及刀具、模具及耐磨零部件。

Platit主要采用矩形大面积平面靶阴极电弧涂层技术，该技术起源于上世纪90年代中期，使每一阴极靶材完全覆盖有效涂层区域，最大靶材高度可达800mm，由于成功地解决了电弧的控制技术，与同类技术相比其真空炉内涂层均匀性得以大幅度提高，通常炉内不均匀性可控制在10%以内，绝对偏差小于0.5μm。

该公司2002年所开发的π80涂层设备具有独特的创新性。π80设备与传统的涂层设备有较大的区别，首先引入了纳米结构薄膜概念，以（nc-Ti1-xAlxN）/（αSi3N4）纳米复合相结构薄膜为例，在强等离子体作用下，纳米TiAlN晶体被镶嵌在非晶态的Si3N4体内，这种结构使薄膜硬度可达到50GPa，且高温硬度更是十分突出，当温度达到1200℃时，其硬度值仍可保持在30GPa；其二，在工业化生产设备中虽然仍采用了阴极电弧技术，但蒸发源已由原来的平面形式变换成可转动的圆柱形靶，由此带来的好处可能是多方面的，例如可以自动清洁、靶材利用率高、涂层表面粗糙度可达到Ra0.02～0.03μm（通常涂层为Ra0.1μm左右），π80与其它传统的涂层设备相同可进行TiN、TiAlN、AlTiN、nACo、TiCN-Mp、TiAlCN、CrN、ZrN、DLC等涂层。